●主要功能:多靶复合磁控溅射镀膜机,可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要,具有极高的实用性和通用性(三靶、垂直与共溅射合一、在线..
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●本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜, 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜和截止膜等各种膜..
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●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上,在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓,开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯..
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●该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,..
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●该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,标配工业级人机界面和西门子PLC系统..
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●形式:箱式一体机,立式前开门,蒸发室和抽气室为整体焊接式,沉积腔采用SUS304真空氩弧焊成型不,一体机系统,可连接单排双工位手套箱,中间用DN150超..
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●“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场,探索薄膜太阳能电池,如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段,也用于有机柔性薄膜制备,为公司专利产品“..
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●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合,用于制备特种薄膜,薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点,是半导..
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1. 主体:全封闭框架结构,真空室为前开门方式,机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料(SUS304),箱体尺寸为不小于φ350X40..
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●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备,可实现共溅射,直流、射频兼容,特别适于科研院所和企业进行..
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