半导体用超纯水设备
半导体用超纯水设备工艺
预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM)
半导体用超纯水设备特点
为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
半导体用超纯水设备参数
1.原水水源(自来水,地下水井水,河水,湖水...),除了自来水,其它的水源,需要提供水质报告,水源不一样,处理工艺不一样,费用就有很大的差别;
2.配置(需要高端配置还是一般配置,就是指水泵有国产的还是进口的,反渗透膜用海德能的还是陶氏的...);
3.控制(用PLC全自动控制,还是手动控制);
4.出水水质要达到什么标准,电阻率要达到多少,有什么用途,如果不知道,也没关系,告诉我们您是做什么产品的,我们做给您设计出完全符合您生产要求的方案;
系统应用场合
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
