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干法刻蚀设备 surpass大口径等离子刻蚀机,主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形..

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