全氟丁二烯685-63-2

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全氟丁二烯C4F6作为一种温室效应GWP极低,绿色环保的高效干蚀刻气体,具有更快刻蚀速率、更高选择性和更高精确性,更适合于高深宽比的蚀刻工艺。 ..

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三氟碘甲烷2314-97-8

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作为一种低GWP值的绿色环保新型干法刻蚀气体,可应用于半导体闪存芯片的前段刻蚀。另外其还可用于灭火剂、制冷剂、三氟甲基化。 外观和性状:液化压..

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全氟异丁腈42532-60-5

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全氟异丁腈C4F7N 全氟异丁腈C4F7N作为一种新型环保的绝缘、灭弧气体,替代SF6应用于电力设备中。它可以与CO2、N2、O2、空气中的一..

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一氟甲烷593-53-3

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一氟甲烷HFC-41 高纯一氟甲烷HFC-41气体是一种绿色、高效的新型蚀刻气,它可选择性地蚀刻硅化合物的薄膜,可用于半导体及电子产品的蚀刻制..

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反式-1,3,3,3-四氟丙烯29118-24-9

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ODP为0,GWP100年只有6,蒸汽压力及溶解性合适,可用于替代HFC-134a,作气雾抛射剂使用。 外观和性状:液化压缩气体 ..

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反式-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯66711-86-2

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HFO-1336mzz(E) 新型热泵工质,用于余热回收。也可作为新型绝缘气体,替代SF6。 ODP:0 GWP:18..

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顺式-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯692-49-9

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HFO-1336mzz(Z) 作为低GWP值第四代发泡剂,替代HFC-245fa、HFC-365mfc用于硬质聚氨酯泡沫领域。 产..

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三氟乙酰氟354-34-7

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三氟乙酰氟是半导体行业等离子刻蚀工艺中一种重要的刻蚀气体,主要用作介质刻蚀。 与传统的CF4O2 和C2F6 O2相对比CF3COF O2可以..

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反式-1-氯-3,3,3-三氟丙烯102687-65-0

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HFO-1233zd(E) 低GWP值新型HFO产品,作为混合工质的重要组分,用于制冷空调,亦可作为新型发泡剂。 分子式:C3H2..

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顺式-1-氯-3,3,3-三氟丙烯99728-16-2

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顺式-1-氯-3,3,3-三氟丙烯HCFO-1233zd(Z) HCFO-1233zd(Z)是一种新型环保清洗剂。它具有良好环境特性,不破坏大..

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