三氟乙酰氟是半导体行业等离子刻蚀工艺中一种重要的刻蚀气体,主要用作介质刻蚀。

与传统的CF4/O2 和C2F6/ O2相对比CF3COF/ O2可以获得更高的F/C比。理论上,通过调节O2的浓度来调节F/C比,以达到最佳的刻蚀效果。

三氟乙酰氟具有刻蚀速率快、高深宽比、高选择性的优点,可以实现近乎垂直的刻蚀加工,为制造小体积、大容量的3D NAND闪存提供了可能;同时三氟乙酰氟环境友好,GWP 1,大气寿命6.9天,温室效应很低,是当前兼具优异刻蚀性能和环保性能的含氟电子刻蚀气之一。

随着全球气候变化问题日益凸显,越来越多的国家提出了无碳未来的愿景。2023年,欧盟委员会和欧盟议会达成协议,到2050年,HFCs(氢氟烃)的消费将逐步被完全淘汰。根据欧盟委员会分配的生产权,HFCs的生产将在2036年之前逐步降至最低,达到15%。针对小型家用和热泵设备方面,从2027年开始,欧盟将开始全面禁止使用GWP值大于150的HFCs的小型(12

kW)单体式热泵设备和空调,并在2032年实现完全淘汰。另外,根据今年美国环保署(EPA)的最新提案,从2025年开始,所有常见的较高GWP值的HFCs制冷剂,包括HFC-134a、HFC-404A、HFC-410A等,在大多数的空调中都将被禁用。因此,开发GWP更低、稳定、安全的制冷剂仍是制冷行业亟需解决的问题。