详细说明：

一氟甲烷/HFC-41

高纯一氟甲烷HFC-41气体是一种绿色、高效的新型蚀刻气,它可选择性地蚀刻硅化合物的薄膜,可用于半导体及电子产品的蚀刻制程中。

外观:液化压缩气体

颜色:无色

味道:轻微的味道

摩尔质量:34.03 g/mol

熔点(°C):-142

沸点 (°C):-78.5 °C

临界温度 (°C):44.9

临界压力 (psia):44.6

蒸气压 (psia):3300kPa (@ 21 °C)

产品参数：

中文名称：一氟甲烷
中文别名：甲基氟
英文名称：fluoromethane
分子式/结构式: CH₃F
分子量(Mr): 34.03
物化性质：凝固点:-142
用途：半导体刻蚀气体、制冷剂